朱俊

个人简历

朱俊，男，博士、教授，博士生导师，1966年1月生，籍贯江苏省。在南京大学物理系完成本科、硕士和博士的学习，1995年至1996年在德国亚堔工业大学(RWTH-Aachen)做访问学者进行合作研究。2004年4月到成都电子科技大学微电子与固体电子学院从事教学、科研工作至今。

研究领域

主要从事电子功能薄膜材料制备以及结构与性能相关性的研究。

近期论文

1.Growth dynamics and cell migration in ferroelectric thin films Applied Physics letters 88, 152901(2006) 2.Strain induced magnetic anisotropy in highly epitaxial CoFe2O4 thin films Applied Physics letters 89, 262506(2006) 3.Epitaxial properties of ZnO thin films on SrTiO3 substrates grown by laser molecular beam epitaxy Applied Physics letters 90, 151918(2007) 4.Effects of chemical fluctuations on microstructures and properties of multiferroic BiFeO3 thin films Applied Physics letters 91, 082501 (2007) 5.Epitaxial fabrication and memory effect of ferroelectric LiNbO3 film/AlGaN/GaN heterostructure Applied Physics letters 95, 232907 (2009). 6.Electron trap memory characteristics of LiNbO3 film/AlGaN/GaN heterostructure Applied Physics letters 96, 032103 (2010). 7.Growth of highly near-c-axis oriented ferroelectric LiNbO3 thin films on Si with a ZnO buffer layer Applied Physics letters 102, 051914 (2013). 8.High-performance n-MoS2/i-SiO2/p-Si heterojunction solar cells Nanoscale 7, 8304-8308(2015)

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